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半導體制程(支撐)材料

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六氟-1,3-丁二烯

更新時間:2021-12-16 點擊數:685

六氟-1, 3-丁二烯是一種無色無味的液化可燃氣體,在空氣中燃燒極限為7%?73%,它作為刻蝕氣體用于半導體制程的等離子刻蝕,與傳統使用的全氟飽和氟碳類蝕刻氣體CF4、C2F6、C3F8、C-C4F8和NF3相比,六氟丁二烯具有更高的蝕刻選擇性、精確性和縱橫比。


技術指標:


產品用途:

在電子工業中用作刻蝕氣體,還可用于生產含氟聚合物'火箭燃料用的鍵合劑、麻醉劑'制冷劑以及抗霜聚合物用的一種交聯劑等。



備案號:魯ICP備17016486號-5

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